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产品概述
产品特点
分子束蒸发源SOURCE-1250特点简介：
分子束蒸发源，用于在超高真空中制备MBE生长的薄膜；
开放式蒸发源，它的设计是为了尽量减少分子束 辐射时的气体排放；
安装法兰盘：ICF070・114等；
温度控制：通过PID控制Max1250。
产品规格
分子束蒸发源SOURCE-1250规格：
(1) 坩埚容量：约10cc（唇边约15mm x 57mm）；
(2) 坩埚材料PBN；
(3) 加热器 高纯度Ta线盘绕；
(4) 侧面反射器 5层 高纯度Ta；
(5) 加热元件支撑底座 高纯度Mo；
(6) 热电偶Pr13；
(7) 加热元件的外部形状为φ35X50mm；
(8) 工作温度范围300°C至1250°C；
(9) 百叶窗的开/关由微型法兰盘旋转导入机完成（标准手动：空气驱动是可选的）；
(10) 安装法兰114CF (4.5 "CF)；
(11) 加热电源 1KW直流电源，有电流和电压限制；
(12) 温度控制器：PID控制方式RT~1800°C，控制精度0.1°C最大；
(13) 最高烘烤温度：250°C（拆除电缆和空气驱动装置后）。
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应用领域
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